6分钟前 信宜充电宝LOGO曝光显影厂免费咨询「利成感光」[利成感光38dbdb8]内容：过量曝光会使图形线条变细，蚀刻产品线条变粗。所以的办法是依据显影的干膜光亮程度，图像清晰度，图案线条与底片相符，曝光设备参数和感光性能，确定适合的曝光时间。曝光显影加工是半导体工业制程中的一种加工方法，也被称为光刻工艺。它是通过在芯片表面上涂覆一层光刻胶，并使用掩膜在光刻胶上曝光出所需要的芯片图案，通过显影来去除未曝光的部分，将芯片图案准确地转移到芯片表面的制程。
曝光一般在曝光机内进行，目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。
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